据外媒消息，近日，三星电子将本土公司东进世美肯半导体开发的用于高科技工艺的极紫外 (EUV) 光刻胶引入其量产生产线，据悉，这是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试，此前，韩国的光刻胶需求高度依赖于日本及从其它国家进口。
公开资料显示，光刻胶是光刻工艺中的关键材料，是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。
外媒消息显示，东进世美肯半导体的光刻胶在去年通过了三星电子的可靠性测试，距今不到一年就被应用于大规模生产线。目前，除了东进世美肯外，韩国本土企业永昌化学和SK材料性能也在开发光刻胶，但它们还没有达到可靠性验证的水平。
光刻胶产业有着极高的行业壁垒。首先它对树脂和感光剂等原材料要求较高，并且制作技术壁垒高，在研发和量产上都需要企业的长期技术积累。此外在产品送样前，光刻胶生产商还需要购置光刻机用于内部配方测试，根据验证结果调整配方。
根据曝光波长的不同，光刻胶可以分为g线、i线、KrF、ArF以及EUV光刻胶5大类别，其中g线、i线一般用于250nm以上工艺，KrF、ArF和EUV光刻胶属于高端光刻胶，KrF一般用于250nm-130nm工艺，ArF一般用于130nm-14nm工艺，EUV光刻胶主要用于7nm及以下工艺。
从整体业态来看，全球光刻胶市场高度集中，日本和美国企业把控着市场绝大部分市场份额。尤其是日本的JSR、TOK、信越化学、住友化学以及富士胶片四家企业便占据了超过全球80％左右的市场份额，且侧重中高端光刻胶布局，垄断地位稳固。
从我国光刻胶情况看，国产光刻胶产品主要集中在g/i线市场，同时厂商也在不断发力KrF、ArF等高端光刻胶领域，并获得了一定突破。
在KrF光刻胶领域，北京科华和徐州博康已具备批量供货能力，此外晶瑞电材11月末消息显示，高端KrF光刻胶已完成中试，上半年KrF光刻胶生产及测试线已经基本建成，争取今年批量供货。上海新阳8月透露，光刻胶验证工作还在进展中，KrF光刻胶已有订单客户超3家。
ArF光刻胶主要用于ArF准分子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺当中，是重要的光刻胶品类之一，国内厂商正处于技术开发或客户验证中。如南大光电11月消息显示，其193nm Arf光刻胶已通过两家客户验证，上海新阳ArF光刻胶则处于验证阶段。
EUV光刻胶主要用于7nm及以下先进制程的光刻工艺，国内厂商EUV光刻胶处于早期研发阶段，涉足企业包括上海新阳等。
随着全球半导体增产扩能的继续，半导体产业链上游的半导体材料将持续受益，未来全球光刻胶市场增长势头明显。此外，随着各国自研加速，全球光刻胶市场格局或将迎来变革。
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