在价格方面，受下游需求不断增加，芯片价格上涨的影响，光刻胶的价格也迎来了上涨。南京海关工作人员介绍，仅在今年1-2月，江苏昆山口岸进口的集成电路金额总数就超过了100亿元人民币，在进口集成电路数量和去年基本持平的情况下，进口金额却增长了20%。此外，该海关人员也表示，此前企业每次能采购到100多公斤光刻胶，而现在每次只能采购到10-20公斤。
很明显，最近半导体行业的缺“芯”难题，已经上导到上游材料领域。由于半导体光刻胶的行业集中度高，龙头企业市场份额高，行业利润水平高，且暂无潜在替代产品。作为半导体芯片产业的上游材料部分，光刻胶产品的质量直接影响下游芯片产品的质量。下游企业对光刻胶产品的质量和供货能力十分重视。
光刻胶根据用途主要可分为以下几类：半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶以及其他光刻胶。其中，半导体光刻胶约占27%，LCD光刻胶和PCB光刻胶分别各占24%，其他光刻胶产品占据25%。本文重点讨论半导体光刻胶。
半导体光刻胶主要通过不断缩短曝光波长，从最初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展，提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前，半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大，KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机应用，日、美企业占据了绝大部分高端光刻胶的产能。
目前，日本占据了全球9成左右的光刻胶市场份额。全球专利分布前十的公司，约有7成来自日本。其中，日本JSR和东京日化、信越化工掌握着EUV光刻胶的供应，富士胶片和住友化学也计划将在2021年量产EUV光刻胶。
表1 盘点13家光刻胶供应商产品进度
2019年，日本宣布对韩国进行出口限制，其中就包括了光刻胶材料，引发了韩国半导体产业的供应危机。实际上，韩国的东进化学、LG化学、锦湖化学、COTEM等也生产光刻胶。比如，锦湖化学为SK海力士半导体供应ArFDry产品以及部分ArF Immersion产品，东进化学为半导体行业供应KrF以下等级部分产品。
另外，值得肯定的是，国内相关企业在近年来也在集中力量攻克高端光刻胶的产业化。以宁波南大光电为例，该公司自主研发的ArF193nm光刻胶产品在2020年12月通过了客户的使用认证，这意味着我国ArF光刻胶产品开发和产业化项目取得了关键性的突破。
同时，上海新阳也在积极攻克ArF193nm技术，本月初该公司发布公告披露了关于购买ASML-1400光刻机的最新进展。上海新阳表示，该公司采购的ASML干法光刻机设备已经顺利交付，对加快193nm ArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响。
据了解，ArF光刻胶可凭借双/多重曝光技术，增加光刻胶使用次数，理论上是可用于28-7nm制程工艺的芯片中。
